集成电路清洗超纯水制取方法

超纯水制备的一次纯水处理系统中,往往要使用反渗透装置(RO),且反渗透膜多以聚酰胺复合膜为主,这类膜不足之处在于:抗氧化性差,氧化性物质能导致膜聚合物分解,而活性炭恰恰对水中余氯、过氧水等氧化性物质有良好的去除效果。因此,在超大规模集成电路超纯水制备的预处理系统中采用活性炭处理单元是十分必要的。一次纯水处理系统的目的是对预处理系统的出水进一步进行处理,代表性的装置有反渗透、混合离子交换、一级膜脱气、EDI(电再生脱盐)、UV(紫外线)、一级抛光等。其中,反渗透、UV进一步去除一次纯水处理系统遗留下来的TOC。混合离子交换既可去除一次纯水处理系统遗留下来的TOC,也可去除SiO2,利用膜脱气对预处理水中的溶解氧进行处理,一级抛光采用高纯树脂,用来处理金属离子。

超纯水系统是为了去除一次纯水处理系统中残留的微量杂质而设置的,值得注意的是,超纯水系统在去除水中各种杂质的同时,如何去除设备因自身材质而引起的污染应引起人们的高度关注。也就是说,一个完整的超纯水系统,不但要有合理的制水流程,而且还要对每个处理设备自身的微量溶出问题进行研究。此外,超纯水的输送方法,配管、阀门材质的选定也非常重要。

当前名称:集成电路清洗超纯水制取方法
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