半导体清洗用超纯水处理工艺流程

任何设备中的整体工艺流程非常严谨，需要不同程序相互配合。半导体清洗用超纯水的水质也要有严格要求，原水经过南方泵的加压进入四级预处理装置，预处理能去除水中的铁锈、大颗料物质。最后经过双极反渗透装置可以进一步去除水中的杂质，最后经过半导体清洗用超纯水处理工艺最后一道工序微孔过滤器来对水进行深度处理使水达到用水要求。

半导体清洗用超纯水标准

关于超纯水设备的出水水质有很多标准，对于不同企业生产过程中所用到的纯水水质也有所不同。半导体行业要遵循我国电子工业的相关标准，并且还要达到一些国外的水质标准等。而且还能达到美国ASTM标准和德国、日本等标准，并且水质稳定不会造成二次污染。

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