半导体、电子行业是目前世界上要求高标准的超纯水用户。超出水制造技术的发展极大地推动了半导体和电子工业的技术进度。同时半导体、电子工业的迅速发展促进了超纯水制造技术装备的发展。

目前先进的制水工艺：

（RO）反渗透 + （EDI）电去离子工艺

（RO）反渗透 + 混床工艺

产水符合电子工业用水 (水质符合美国ASTM标准，电子部超纯水水质标准（18MΩ*cm，15MΩ*cm，12MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级)。

电子超纯水设备

电子超纯水设备应用范围

半导体工业用超纯水、彩色显像管用高纯水、集成电路、精细化工、实验室。

半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。

制备电子工业用超纯水的工艺流程

电子工业制备超纯水的工艺大致分成以下3种：

(1)采用离子交换树脂制备电子工业超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→阳床→阴床→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点。

(2)采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合制备电子工业超纯水的方式，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点。

(3)采用反渗透设备与电去离子(EDI)设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式，这是一种制取超纯水的最新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点

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